小森コーポレーションは山形大学と共同で、印刷技術を用いたITO（酸化インジウムスズ）透明電極の高精細パターニング技術を開発したと、2026年6月8日に発表した。
・レーザースクライブなどに代わる印刷ベースの低コストな手法を開発
・ペロブスカイト太陽電池などの一貫生産ライン実現に向けた技術進展
産学連携による研究開発を推進するPE要素技術開発センター
小森コーポレーションは、山形大学フレキシブル基盤技術グループとの共同研究を通じて、太陽電池の基幹部材であるITO透明電極の新たなパターニング技術を開発した。
新技術は、子会社であるセリアコーポレーションの技術を基盤とし、印刷プロセスを用いる。従来、ITO透明電極のパターニングには、レーザースクライブやフォトリソグラフィといった多工程を要する手法や、設備コストが高い手法が用いられてきた。今回開発された技術は、これらの手法を印刷プロセスに置き換えることで、高精細な電極パターンの形成を可能にするという。
同社は2025年にペロブスカイト太陽電池向け薄膜塗工技術の開発進捗を発表しており、オフセット印刷機などで培った技術を応用して次世代太陽電池の量産技術確立を進めている。今回のITO透明電極のパターニング工程における印刷ベースの手法開発により、一貫した印刷プロセスによる太陽電池製造に近づいたとする。
今後は、ペロブスカイト太陽電池や有機薄膜太陽電池（OPV）の製造プロセスへの適用を見据え、一貫生産ラインへの展開を視野に開発を進める。
本技術によってパターニングされたITO透明電極のサンプルは、2026年6月10日から12日に東京ビッグサイトで開催される「JPCA Show 2026」の山形大学ブースで展示する。
参考資料： 小森コーポレーション l
